桌面式薄膜溅射沉积系统
仪器型号：英国Korvus公司Hex
主要用途：磁控溅射、热蒸发，可以沉积金属、半导体、氧化物薄膜。
技术指标：
模块化独立面板；
系统尺寸小，65*60*70 cm3；
4英寸样品台；
快速抽真空，20分钟内达到5*10-6Torr。
